半導體潔凈室氣體分析監測系統通過污染物源頭控制、傳播控制，實時監控污染物濃度并結合多級過濾器以及新風系統來實現，持久監測AMC濃度，有助于掌握污染物源頭、穩定生產、預防過濾器突發性壽命減少等。

空氣分子污染物監測系統快速監測、報警、極低濃度測量、寬測量區域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業要求之一。深紫外光刻工藝特別關注氨、胺類、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類等濃度測量，當這些氣體與化學放大光刻膠反生反應 時，將深深的影響半導體器件質量。

潔凈室環境中的空氣分子污染物AMC，內部來自建筑材料釋出、設備和材料釋出、腐蝕和光刻等工藝過程中化學藥品逸散、人員產生、管路泄露、設備維護修理時散發等，外部來自環境空氣中存在的氣相污染物，以及潔凈室的廢氣排放重新送回潔凈室。

實時監測氣態分子污染物AMC可以在生產環境中快速的探測污染物。另外，直接吸收式的檢測因其零背景的性質，可保證長期高穩定性。DKG ONE-CF4可與其他檢測儀器，如顆粒物監測儀等，整合在一個機柜里。

AMC空氣分子污染物VOC監測系統對于高科技生產過程是關鍵性因素，特別是微電子行業，有機污染物是生產過程中的消極因素，會導致高科技公司因產品質量問題而產生的成本增加。